開發先進半導體晶片一直是大國軍工產業的關鍵技術。最近，俄羅斯媒體稱，為加快自研光刻機的開發進度，俄方與白俄羅斯企業敲定了合作方案。
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據報道，俄羅斯將為兩大白俄微電子領域項目提供約 100億盧布信貸支持，分別資助集成電路工藝的Integral公司及精密光刻技術領域的Planar公司。其中，Planar公司在生產光刻機等相關設備已有 50多年的經驗。白俄羅斯方面透露，兩國已簽署建立光掩模（EUV mask）聯合開發和生產中心的協議，並且表示合作計劃將使我們大大減低對進口供應的依賴。
此前，俄羅斯科學院宣稱 2028年將自研自產光刻機，有信心生產7nm芯片。俄羅斯大諾夫哥羅德策略發展機構（Novgorod Strategy Development）更表示將來的國產光刻機能擊敗ASML 同類型產品。
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Source：快科技