EBL 光刻技術突破 Zyvex 成功挑戰 0.7nm 製程

| 黃俊翔 | 25-09-2022 00:10 | |

目前大家最常聽到的晶片製程都是 5nm 及剛剛量產的 3nm,不過世上最先進的晶片製程,其實已經遠超此水平,美國的 Zyvex 公司剛剛便發佈 0.7nm 的光刻機。

現時市面上使用各式各樣晶片的製品,大多是採用阿斯麥公司的 EUV 光刻機製成,但其實它並非世上獨有的光刻技術。美國的 Zyvex 公司,便向 EBL 電子束光刻技術深入研發,最近推出 Zyvex Litho 1 光刻系統,能製作出 0.7nm 晶片,是目前世上精度最高的光刻系統。

這套 EBL 光刻系統,它的製作的晶片並非一般常用的晶片,而是專為量子電腦製作部件,雖然它的技術大幅領先 EUV 系統,但始終是無法普及應用,皆因它最大的缺點就是產量非常低,不可能應付現時市面的晶片需求,換言之是無法取代 EUV 光刻機的地位。


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Source : ezone.hk 

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